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德國(guó)Supfina支架

德國(guó)SUPFINA支架、SUPFINA抱閘、SUPFINA機(jī)床配件

拋光機(jī)也稱(chēng)為研磨機(jī),常常用作機(jī)械式研磨、拋光及打蠟。其工作原理是:電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)安裝在拋光機(jī)上的海綿或羊毛拋光盤(pán)高速旋轉(zhuǎn),由于拋光盤(pán)和拋光劑共同作用并與待拋表面進(jìn)行摩擦,進(jìn)而可達(dá)到去除漆面污染、氧化層、淺痕的目的。拋光盤(pán)的轉(zhuǎn)速一般在1500-3000 r/min,多為無(wú)級(jí)變速,施工時(shí)可根據(jù)需要隨時(shí)調(diào)整。

拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到*大的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響*終觀察到的組織,即不會(huì)造成假組織。前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深;后者要求使用*細(xì)的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。

解決這個(gè)矛盾的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有*大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能小;其次是精拋(或稱(chēng)終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到*小。拋光機(jī)拋光時(shí),試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng),以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時(shí),由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫,潤(rùn)滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會(huì)拋傷表面。為了達(dá)到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低,不要超過(guò)600r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些,因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無(wú)光,在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕,有待精拋**。

精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)速度可適當(dāng)提高,拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見(jiàn)到磨痕。拋光機(jī)拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu),已逐步引起有關(guān)專(zhuān)家的重視。國(guó)內(nèi)外在拋光機(jī)的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新機(jī)型、新一代的拋光設(shè)備,正由原來(lái)的手動(dòng)操作發(fā)展成為各種各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)拋光機(jī)。


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